Un prototipo de fuente de luz se presenta al público
La empresa emergente de Shanghái Langdao Suiyan presentó un prototipo de fuente de luz ultravioleta extrema (EUV) en la 26.ª Feria Internacional de la Industria de China. Afirmó que el 90 % de sus componentes se fabrica en China y que la producción en serie aún tardaría entre tres y cinco años. La presentación, descrita en informaciones fechadas en octubre de 2026, dio visibilidad a una parte concreta de los esfuerzos de China por desarrollar tecnología avanzada para fabricar chips: equipos diseñados para generar la luz que se utiliza para imprimir diminutos patrones de circuitos.
Contenido
- Un prototipo de fuente de luz se presenta al público
- ¿Qué se presentó en Shanghái?
- Las especificaciones publicadas
- Cómo se genera la luz
- Por qué importan una mayor potencia y una vida útil más larga
- Qué significa que el 90 % sea de origen nacional
- Una empresa emergente respaldada por inversores del sector de los chips
- Los controles a la exportación mantienen la presión para desarrollar tecnología nacional
- Los avances en otros ámbitos permiten poner en perspectiva la EUV
- Puntos clave
El dispositivo presentado es una fuente de luz EUV, un componente importante de una máquina de litografía. Una máquina completa también necesita óptica de precisión, una plataforma que coloque la oblea de silicio, un sistema de vacío y controles que permitan que todos esos componentes funcionen conjuntamente. El plazo indicado por Langdao se refiere al desarrollo de la fuente de luz; el personal de la empresa señaló que las principales tareas pendientes son aumentar la potencia y garantizar un funcionamiento fiable durante periodos prolongados.
Representantes de la empresa dijeron que el prototipo podría utilizarse para realizar pruebas de exposición de chips. Las especificaciones atribuidas a la empresa indican que su sistema de baja potencia FlintNano produce más de 15 vatios de luz EUV y puede funcionar de forma continua durante más de 100 horas. No se dieron a conocer resultados de pruebas independientes ni datos detallados sobre la exposición realizada con el prototipo presentado, por lo que su rendimiento en pruebas prácticas de fabricación de chips sigue siendo incierto.
El desarrollo es importante porque las empresas chinas de semiconductores no pueden comprar máquinas de litografía EUV al proveedor neerlandés ASML debido a las restricciones a la exportación. Una fuente de luz nacional podría contribuir con el tiempo a crear una cadena de suministro alternativa. Por ahora, la presentación en Shanghái muestra a una empresa joven que trabaja en uno de los componentes más exigentes, y que calcula que aún necesitará varios años de ingeniería.
¿Qué se presentó en Shanghái?
El prototipo de Langdao ocupó un espacio modesto en el área de exposiciones de Shanghái, dentro del pabellón de tecnología e innovación de la feria. Su aspecto rudimentario llamó la atención, mientras que el personal declinó conceder entrevistas formales a los medios. Otras descripciones de la presentación recogieron explicaciones técnicas de representantes de la empresa, entre ellas la afirmación sobre la proporción de componentes nacionales y el plazo previsto para iniciar la producción.
Langdao dijo que asistió por invitación del Centro de Innovación Tecnológica de Shanghái. El personal explicó que la presencia de la empresa buscaba mostrar que un equipo chino trabajaba en la generación de luz EUV y pedir paciencia ante un proceso de desarrollo que llevaría tiempo.
La litografía consiste en exponer a la luz un recubrimiento fotosensible sobre una oblea de silicio siguiendo un patrón. En etapas posteriores de fabricación, ese patrón se convierte en partes de un circuito electrónico. La luz EUV tiene una longitud de onda de unos 13,5 nanómetros, lo que permite que los equipos adecuados impriman patrones muy finos. Generar esa luz es solo el comienzo: la máquina también debe dirigirla con precisión y proporcionar una exposición uniforme.
Las especificaciones publicadas
El FlintNano LPP-OXXO de Langdao es el sistema de baja potencia del que se han publicado las especificaciones más detalladas. La empresa sitúa la familia FlintNano en una fase de desarrollo de producto y comercialización, mientras que su familia FlintMicro-LPP, de mayor potencia, ya ha completado los trabajos de principio y viabilidad.
Las especificaciones atribuidas a Langdao incluyen:
- Un láser de excitación con una potencia nominal de 1.000 vatios, que funciona a frecuencias de entre 1 y 20 kilohercios.
- Una eficiencia de conversión superior al 2 % y una potencia de salida EUV superior a 15 vatios.
- Funcionamiento continuo durante más de 100 horas.
- Un tamaño de plasma de 60 micrómetros.
- Una estabilidad del plasma inferior al 3 % RMS y una estabilidad de la potencia de salida del 5 %.
Los vatios miden la potencia, es decir, la rapidez con que se suministra energía. La potencia nominal de 1.000 vatios corresponde a la energía que aporta el láser de excitación; la potencia de salida EUV se refiere a la luz útil que produce el sistema. Son etapas distintas del proceso. El kilohercio mide la frecuencia de repetición: 1 kilohercio equivale a 1.000 ciclos por segundo.
La medida de estabilidad RMS resume las fluctuaciones a lo largo de un periodo de medición. Para un fabricante de chips, la cuestión práctica es si cada exposición recibe una cantidad de luz suficientemente uniforme. Las variaciones pueden afectar la precisión con que se forma el patrón del circuito en el recubrimiento de la oblea.
Cómo se genera la luz
Langdao está desarrollando la tecnología de plasma producido por láser, conocida por las siglas LPP. En este método, un láser potente incide sobre diminutas gotas de estaño y crea un plasma extremadamente caliente que emite luz EUV. El plasma es un estado de la materia en el que los átomos han perdido parte de sus electrones. Un espejo colector capta una parte de la luz emitida y la dirige hacia el sistema de exposición.
Las máquinas EUV comerciales de ASML también utilizan una fuente LPP. La dificultad técnica consiste en lograr que el proceso se repita con precisión, captar suficiente luz útil y proteger los equipos sensibles de los efectos del plasma. Es necesario que funcionen conjuntamente un flujo estable de gotas de estaño, un láser de excitación potente y un espejo colector duradero.
El conjunto de actividades de Langdao refleja esas necesidades. Además de fuentes de luz EUV, la empresa trabaja, según explica, en láseres de dióxido de carbono de alta potencia y en programas informáticos de simulación de plasma. Los láseres proporcionan el equipo de excitación, mientras que los programas de simulación ayudan a los ingenieros a estudiar el comportamiento del plasma y ajustar las condiciones de funcionamiento.
Los esfuerzos de investigación en China también incluyen métodos alternativos, como el plasma de descarga inducido por láser y la generación de luz mediante aceleradores. Esos proyectos tienen sus propios plazos de desarrollo. La estimación pública de Langdao sigue siendo de tres a cinco años para que su fuente de luz alcance la producción en serie.
Por qué importan una mayor potencia y una vida útil más larga
Los sistemas EUV comerciales requieren fuentes de luz con una potencia de cientos de vatios y un funcionamiento fiable durante procesos de fabricación intensivos. La potencia de salida superior a 15 vatios publicada por Langdao sitúa su sistema de baja potencia en otra categoría de funcionamiento. Para pasar al uso industrial, será necesario aumentar la luz útil que se suministra y, al mismo tiempo, mantener la estabilidad del equipo.
Una mayor cantidad de luz útil puede ayudar a que un sistema de litografía exponga obleas más rápido. Esto repercute en el número de obleas que puede procesar una fábrica y en el costo de cada exposición. La fiabilidad es igual de importante: una interrupción de la máquina puede retrasar la producción y reducir el valor de una fuente que, por lo demás, sea potente.
El espejo colector plantea un desafío particular porque funciona cerca de un plasma energético. El generador de gotas de estaño también debe suministrarlas en el lugar y el momento adecuados. Pequeños cambios en cualquiera de estos procesos pueden afectar la luz que llega a la oblea.
El funcionamiento de más de 100 horas que declara Langdao equivale a más de cuatro días. Los clientes industriales también necesitarían información sobre los intervalos de mantenimiento, la sustitución de componentes y el rendimiento en ciclos de funcionamiento repetidos. El personal vinculó directamente las tareas de ingeniería pendientes con la potencia de salida y la estabilidad.
Qué significa que el 90 % sea de origen nacional
Representantes de la empresa dijeron que el 90 % de los componentes del prototipo se había producido en China y que la mayoría de las piezas centrales se había desarrollado internamente. También describieron dificultades para obtener algunos componentes importados y afirmaron que, en ciertos ámbitos, las alternativas chinas todavía presentan diferencias en cuanto a estabilidad.
Langdao no precisó si el porcentaje del 90 % se calculó según el número de componentes, su valor u otro criterio. Para los lectores, la pregunta útil es qué piezas siguen siendo difíciles de sustituir y cómo afectan a la fiabilidad del sistema en su conjunto. Incluso una pequeña proporción de componentes puede incluir equipos esenciales para el funcionamiento continuo.
El personal declinó identificar las piezas importadas restantes. Su explicación situó el desafío de ingeniería en una red de proveedores, y no únicamente en el trabajo de ensamblaje de una empresa. Para mejorar los componentes nacionales, estos deberán ofrecer una calidad uniforme y una vida útil fiable.
Para las fábricas chinas de obleas, una fuente nacional consolidada podría reducir con el tiempo la exposición a las restricciones sobre equipos y piezas de repuesto. La tarea actual consiste en convertir los diseños nacionales en componentes que puedan funcionar juntos de forma previsible durante periodos prolongados.
Una empresa emergente respaldada por inversores del sector de los chips
Langdao se fundó en 2024. Su fundador, Wang Hao, y su equipo trabajan a partir de investigaciones del Laboratorio de Descarga de Gases y Plasma de la Universidad de Tsinghua y se centran en la tecnología LPP para fuentes EUV de litografía.
El desarrollo de la empresa ha estado acompañado de varias rondas de financiación. Entre los inversores mencionados en las informaciones sobre la financiación figuran Woyan Capital y China Fortune-Tech Capital, vinculada a Semiconductor Manufacturing International Corporation, el principal fabricante de chips por contrato de China. Ese respaldo conecta a la empresa emergente con inversores familiarizados con los equipos y la fabricación de semiconductores.
La secuencia de acontecimientos descrita abarca la fundación, las rondas de financiación y la presentación pública:
- 2024: Langdao se fundó e inició su proyecto de fuente de luz EUV.
- Octubre de 2025: Suiyue Ventures, vinculada a Zhangjiang Hi-Tech, aportó financiación inicial.
- Enero de 2026: La empresa completó una ronda adicional de financiación inicial.
- Julio de 2026: Langdao completó una ronda de financiación de serie A.
- Octubre de 2026: El prototipo de fuente de luz se presentó al público en la feria industrial de Shanghái.
La financiación proporciona a la empresa recursos para equipos, contratación y desarrollo adicional. El calendario de Langdao prevé todavía varios años de trabajo de ingeniería después de la presentación pública, lo que muestra la distancia entre financiar un prototipo y ofrecer un producto industrial reproducible.
Los controles a la exportación mantienen la presión para desarrollar tecnología nacional
ASML es el único proveedor comercial de sistemas completos de litografía EUV. Las restricciones impiden vender esos sistemas a China, por lo que desarrollar una alternativa nacional es una prioridad estratégica para los fabricantes chinos. ASML reforzó sus capacidades en fuentes de luz al adquirir Cymer en 2013, como parte del largo proceso de desarrollo industrial que hizo posible los equipos actuales.
Los fabricantes chinos de chips siguen utilizando equipos de ultravioleta profundo, o DUV, para la producción. La tecnología DUV emplea longitudes de onda mayores que la EUV. Los fabricantes pueden recurrir a la técnica de patrones múltiples, que divide un patrón de circuito complejo en varias etapas de procesamiento, para ampliar las capacidades de esas máquinas. El proceso añade complejidad y costos de fabricación.
El director ejecutivo de ASML, Christophe Fouquet, ha expresado escepticismo sobre la rapidez con que China podría igualar la tecnología de la empresa. Durante una llamada con inversores, describió el camino que aún debía recorrer China:
un camino muy, muy largo
La estimación de Langdao, de tres a cinco años, ofrece un plazo más concreto para su propio proyecto. Si se cuenta desde la presentación de octubre de 2026 mencionada en las informaciones, el plazo apunta aproximadamente a 2029-2031, si el desarrollo avanza según lo previsto. Se trata de un calendario para la fuente de luz; una máquina de litografía completa requeriría que sus otros sistemas principales alcanzaran niveles de rendimiento compatibles.
Los avances en otros ámbitos permiten poner en perspectiva la EUV
Los proveedores chinos también están ampliando su actividad en otras etapas de fabricación. En la exposición de semiconductores celebrada en Shenzhen durante el mismo periodo, Hwatsing presentó una máquina de implantación de iones, Leadmicro mostró equipos para depositar películas delgadas y Piotech anunció una tecnología de deposición de películas de carbono para chips de memoria y lógica.
Esos avances importan porque una fábrica de obleas depende de muchos tipos de equipos. La implantación de iones modifica las propiedades eléctricas de zonas seleccionadas del silicio. La deposición añade capas delgadas de material. La litografía define los patrones que guían las etapas posteriores. Los avances en estas fases pueden aumentar el uso de equipos nacionales, aunque el desarrollo de la EUV continúe.
Bernstein Research pronosticó que los proveedores nacionales alcanzarían el 52 % del mercado chino de equipos para la fabricación de obleas en 2028, frente a una estimación del 28 % en 2026. Se trata de un aumento previsto de 24 puntos porcentuales. El pronóstico abarca un mercado de equipos mucho más amplio que el de la litografía EUV.
Los próximos avances significativos de Langdao dependerán de que aumente la potencia de salida, se mantenga la fiabilidad y se demuestre el rendimiento de exposición durante el periodo de ingeniería previsto por la empresa. Usuarios chinos de internet también se han preguntado si la publicidad en torno a la presentación busca captar fondos y fomentar el entusiasmo patriótico. La publicación de resultados detallados de funcionamiento ofrecería a posibles clientes e inversores información más concreta sobre los avances del producto.
Puntos clave
- Langdao Suiyan presentó en Shanghái un prototipo de fuente de luz EUV; el personal de la empresa afirmó que el 90 % de sus componentes es de origen nacional.
- La presentación se centró en una fuente de luz, uno de los varios sistemas principales necesarios en una máquina completa de litografía EUV.
- Las especificaciones publicadas del FlintNano incluyen una potencia de salida EUV superior a 15 vatios y un funcionamiento de más de 100 horas.
- El personal calculó que faltan entre tres y cinco años para la producción en serie; las principales tareas de ingeniería son aumentar la potencia y la fiabilidad.
- La empresa se fundó en 2024 y ha atraído a inversores vinculados al sector chino de los semiconductores.
- Las restricciones a la exportación de las máquinas EUV de ASML siguen impulsando los esfuerzos de China para desarrollar equipos nacionales.
